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紫外光刻機可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生產(chǎn)。它方便處理各種非標準基片、例如混合、高頻元件和易碎的III-V族材料，包括砷化鎵和磷化銦。而且該設(shè)備可通過選配升級套件，實現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下亮點：高分辨率掩模對準光刻，特征尺...

femto可調(diào)電流放大器是要求在帶寬值達200MHz從小電流轉(zhuǎn)換成可用的電壓應(yīng)用程序的佳選擇。它非常適合用于直流和交流測量值達200MHz，時間分辨測量到該ns區(qū)域和作為前置放大器可快速光電探測器信號。提供了包括可變增益值從102到108V...

Harrick等離子清洗機在各個行業(yè)的清洗工作中起著非常重要的作用。等離子清洗機確實很強大，安全可靠，可用于各種環(huán)境領(lǐng)域和場合，實現(xiàn)高效安全使用。它的作用主要表現(xiàn)在這些方面。1、表面清潔Harrick等離子清洗機在運行過程中可以對產(chǎn)品表面進...

紫外光刻機是制造集成電路中重要的設(shè)備，特別是現(xiàn)在市面上大部分的芯片都是屬于電子芯片，當(dāng)電子芯片的工藝小于一定的尺寸的時候，就必須依靠光刻機在制作芯片，也就是說如果沒有光刻機就沒有辦法制造出頂級的芯片，比如市面上7nm芯片、5nm芯片等都不可...

紫外光刻機新一代紫外光源：172nm，具有同類產(chǎn)品良好的輸出強度，3%的可用孔徑，弧光燈使用壽命更長。暴露高達30000次，瞬間啟動，無需超凈室，內(nèi)置凈化系統(tǒng)可使系統(tǒng)在大氣環(huán)境中工作，無需主動冷卻和外部冷卻，無有毒氣體和汞等物質(zhì)。高光能轉(zhuǎn)換...

光刻是使用曝光將設(shè)計的掩模圖案轉(zhuǎn)移到基板的過程，URE-2000/35型紫外光刻機是專為實驗室研發(fā)和小批量生產(chǎn)而設(shè)計的高分辨率光刻系統(tǒng)。光刻機提供良好的基板適應(yīng)性，可夾持的標準尺寸基板最大直徑為150mm。該設(shè)備提供多種曝光方式，包括真空、...